全球光刻胶行业与中国光刻胶企业
2023-06-27 11:08 浏览:36
光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快。全球光刻胶企业CR6达到88%，其中东京应化（TOK）、（JSR，捷时雅)、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占27%、13%、12%8%的市场份额，美国陶氏化学占17%份额，韩国东进(DONGJIM)占11%市场份额。据SEMI统计，2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，较上年同期增长19.49%，2015-2021年复合增长率(CAGR)为12.03%;2021年中国大陆半导体光刻胶市场规模达4.93亿美元，较上年同期增长43.69%，远超全球增速。在当前环境下，本土光刻胶企业逐渐崛起，但力量尚弱。
一、全球光刻胶市场规模持续增长，中国市场发展潜力大全球光刻胶的生产销售起步于20世纪50年代，市场规模总体保持增长。2010-2020年全球光刻胶市场规模由55.5亿美元增长至87亿美元，CAGR保持在4.6%左右。随着汽车、人工智能、国防等电子技术的进步，预计2020-2026年光刻胶CARG将达5.5%，到2026年将超过120亿美元。数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）根据观研报告网发布的《中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）》显示，从国内发展情况看，随着光刻胶下游产业向亚太地区转移，我国光刻胶行业增长迅速，增速快于全球。据数据，2010-2020年市场规模由26.9亿元增长至87.4亿元，CAGR达到12.5%。目前国内光刻胶市场规模占全球市场规模的比重不高于20%，增长空间较大。预计2020-2026年我国光刻胶CARG将高达7.2%，2026年市场规模将达156.4亿元。数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）二、光刻胶下游市场分布均衡，其中半导体光刻胶占比持续增长作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快，主要原因在于，随着新能源汽车、5G通讯、物联网等行业的发展，下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求的扩大，半导体行业快速发展，也带动上游半导体材料需求增长。数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等，对生产技术要求较高，主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三个方面。除技术壁垒外，光刻胶行业还存在客户壁垒、原料壁垒。光刻胶行业进入门槛高，市场高度集中，CR4约70%。资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业垄断，其中日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据龙头地位。数据显示，2020年，日本企业在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2020年，日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是25.2%、31.4%和51.8%；而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24.9%的市场份额位列全球第一；此外，美国杜邦公司在G/i 线光刻胶市场中也占据明显优势，市场份额位列全球前二。资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）相关概念：容大感光是一家提供光刻胶解决方案的行业龙头公司，主要包括紫外线正胶和紫外线负胶两大类，以及稀释剂、显影液、剥离液等配套，主要应用于二极管和半导体等领域，帮助加工厂实现精密微细加工。
相关概念：是一家生产半导体材料的科技公司，其子公司斯洋国际与LG化学签署了人民币3.35亿元的协议，购买LG的彩色光刻胶部分经营资产。这一合作主要旨在强化公司在光刻胶领域的竞争优势，提高设备品质和生产效率。相关概念：子公司芯刻微材料，进行193nm（ArF）干法光刻胶研发和产业化项目，成立旨在拓展公司在光刻胶领域的业务，提供高品质的光刻胶产品和服务。相关概念：晶方科技是从事半导体精密设备、工业自动化、汽车、消费电子等领域的公司，其光刻机龙头ASML为公司参与并购的Anteryon公司主要合作企业，晶方科技致力于研发和生产高品质的光刻胶材料，以满足不同的需求。相关概念：公司是一家从事微电子化学品的高新技术企业，主要包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。公司致力于提供全面的化学品解决方案，在不断创新和发展中推动着光刻胶领域的进步。相关概念：专注于LCD显示面板领域的企业，主要应用在基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶的显影和剥离、电极的蚀刻等过程中。在技术专利方面拥有较强的实力，提供高品质的解决方案。相关概念：布局有显示用光刻胶和封装光刻胶系列的公司，目前公司显示用光刻胶已经通过国内显示客户验证，并在逐步提高产能。半导体光刻胶是一个技术门槛相对较高的领域，公司继续通过技术创新和不断优化产品结构，增强在行业内的竞争力。相关概念；公司掌握了MO源、半导体前驱体材料、ArF光刻胶及配套材料等高纯电子材料的核心技术和生产工艺，目前已完成一条193nm光刻胶生产线的安装，正在进行调试阶段。相关概念：公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利，以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置。相关概念：专注于湿电子化学品的研发、生产和销售，包括超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等，先后有高效酸性剥离液、铝钼蚀刻液、高分辨率显影液、钛-铝-钛金属层叠膜用蚀刻液等多类高新技术产品。
