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全球光刻胶行业与中国光刻胶企业

日期：2023-06-27 11:08:24 来源：网络整理作者：本站编辑浏览：36 评论：0

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。

半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快。

全球光刻胶企业CR6达到88%，其中东京应化（TOK）、（JSR，捷时雅)、住友化学、富士胶片四大日本企业分别占27%、13%、12%8%的市场份额，美国陶氏化学占17%份额，韩国东进(DONGJIM)占11%市场份额。

据SEMI统计，2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元，较上年同期增长19.49%，2015-2021年复合增长率(CAGR)为12.03%;2021年中国大陆半导体光刻胶市场规模达4.93亿美元，较上年同期增长43.69%，远超全球增速。

在当前环境下，本土光刻胶企业逐渐崛起，但力量尚弱。

一、全球光刻胶市场规模持续增长，中国市场发展潜力大

全球光刻胶的生产销售起步于20世纪50年代，市场规模总体保持增长。2010-2020年全球光刻胶市场规模由55.5亿美元增长至87亿美元，CAGR保持在4.6%左右。随着汽车、人工智能、国防等电子技术的进步，预计2020-2026年光刻胶CARG将达5.5%，到2026年将超过120亿美元。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

根据观研报告网发布的《中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）》显示，从国内发展情况看，随着光刻胶下游产业向亚太地区转移，我国光刻胶行业增长迅速，增速快于全球。据数据，2010-2020年市场规模由26.9亿元增长至87.4亿元，CAGR达到12.5%。目前国内光刻胶市场规模占全球市场规模的比重不高于20%，增长空间较大。预计2020-2026年我国光刻胶CARG将高达7.2%，2026年市场规模将达156.4亿元。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

二、光刻胶下游市场分布均衡，其中半导体光刻胶占比持续增长

作为电子产品细微加工技术的关键性电子产品，光刻胶被广泛应用于半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）等领域。LCD光刻胶分为彩色光刻胶及黑色光刻胶、触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等，PCB光刻胶分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等，半导体光刻胶包括G线光刻胶、I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶等。

光刻胶分类

资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

半导体、液晶显示（LCD）、印刷电路板（PCB）三大领域光刻胶需求占比超70%，分别占全球总消费量的23.3%、25.9%和23.6%。光刻胶中半导体光刻胶应用需求提升速度较快，主要原因在于，随着新能源汽车、5G通讯、物联网等行业的发展，下游应用功率半导体、传感器、存储器等需求的扩大，半导体行业快速发展，也带动上游半导体材料需求增长。

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

三、光刻胶行业高度集中，日本企业占据龙头地位

光刻胶的性能指标包括分辨率、对比度、灵敏度、粘度、粘附性、抗蚀性和表面张力等，对生产技术要求较高，主要体现在配方技术、质量控制技术和原材料技术三个方面。除技术壁垒外，光刻胶行业还存在客户壁垒、原料壁垒。光刻胶行业进入门槛高，市场高度集中，CR4约70%。

光刻胶行业壁垒

资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

从竞争情况看，全球光刻胶市场主要被日美企业垄断，其中日本企业基于政策扶持力度加大实现上下游协同发展，从而牢牢占据龙头地位。数据显示，2020年，日本企业在半导体光刻胶市场中占据的份额至少在60%以上。在半导体光刻胶的细分市场中，2020年，日本东京应化在G/I线、KrF和EUV光刻胶市场的份额位列全球第一，分别是25.2%、31.4%和51.8%；而在ArF光刻胶产品市场中，日本JSR以24.9%的市场份额位列全球第一；此外，美国杜邦公司在G/i 线光刻胶市场中也占据明显优势，市场份额位列全球前二。

资料来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

全球半导体光刻胶细分市场竞争格局

数据来源：中国光刻胶行业现状深度分析与发展趋势预测报告（2023-2029年）

本土光刻胶上市公司

1、容大感光

相关概念：容大感光是一家提供光刻胶解决方案的行业龙头公司，主要包括紫外线正胶和紫外线负胶两大类，以及稀释剂、显影液、剥离液等配套，主要应用于二极管和半导体等领域，帮助加工厂实现精密微细加工。

2、雅克科技

相关概念：是一家生产半导体材料的科技公司，其子公司斯洋国际与LG化学签署了人民币3.35亿元的协议，购买LG的彩色光刻胶部分经营资产。这一合作主要旨在强化公司在光刻胶领域的竞争优势，提高设备品质和生产效率。

3、上海新阳

相关概念：子公司芯刻微材料，进行193nm（ArF）干法光刻胶研发和产业化项目，成立旨在拓展公司在光刻胶领域的业务，提供高品质的光刻胶产品和服务。

4、晶方科技

相关概念：晶方科技是从事半导体精密设备、工业自动化、汽车、消费电子等领域的公司，其光刻机龙头ASML为公司参与并购的Anteryon公司主要合作企业，晶方科技致力于研发和生产高品质的光刻胶材料，以满足不同的需求。

5、晶瑞电材

相关概念：公司是一家从事微电子化学品的高新技术企业，主要包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等。公司致力于提供全面的化学品解决方案，在不断创新和发展中推动着光刻胶领域的进步。

6、格林达

相关概念：专注于LCD显示面板领域的企业，主要应用在基板上颗粒和有机物的清洗、光刻胶的显影和剥离、电极的蚀刻等过程中。在技术专利方面拥有较强的实力，提供高品质的解决方案。

7、鼎龙股份

相关概念：布局有显示用光刻胶和封装光刻胶系列的公司，目前公司显示用光刻胶已经通过国内显示客户验证，并在逐步提高产能。半导体光刻胶是一个技术

门槛相对较高的领域，公司继续通过技术创新和不断优化产品结构，增强在行业内的竞争力。

8、南大光电

相关概念；公司掌握了MO源、半导体前驱体材料、ArF光刻胶及配套材料等高纯电子材料的核心技术和生产工艺，目前已完成一条193nm光刻胶生产线的安装，正在进行调试阶段。

9、捷捷微电

相关概念：公司拥有“高粘度光刻胶无胶丝匀胶装置”专利，以及子公司捷捷半导体拥有“一套光刻胶残胶收集装置。

10、江化微

相关概念：专注于湿电子化学品的研发、生产和销售，包括超净高纯试剂、光刻胶配套试剂等，先后有高效酸性剥离液、铝钼蚀刻液、高分辨率显影液、钛-铝-钛金属层叠膜用蚀刻液等多类高新技术产品。

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